基于GaAs衬底的1.55μm InGaAs/InGaAsP多量子阱激光器结构的制备

0 下载量 32 浏览量 更新于2024-08-27 收藏 676KB PDF 举报
"Metamorphic Growth of 1.55 μm InGaAs/InGaAsP Multiple Quantum Wells Laser Structures on GaAs Substrates" 本文主要讲述了使用两步生长方法和热循环退火技术在GaAs基板上生长InGaAs/InGaAsP多量子阱(MQWs)激光器结构的研究。下面是该技术的知识点总结: 1. 低压金属有机化学气相沉积(MOCVD)技术:该技术用于生长InP缓冲层和MQWs激光器结构。MOCVD是一种常用的半导体制备技术,可以生产高质量的半导体材料。 2. 两步生长方法:该方法用于生长InP缓冲层,首先生长薄的低温InP层,然后生长厚的InP缓冲层。这种方法可以提高生长的InP缓冲层的质量。 3. 热循环退火技术:该技术用于改善InP缓冲层的质量。热循环退火可以减少InP缓冲层中的缺陷,提高其电学和光学性能。 4. InGaAs/InGaAsP MQWs激光器结构:该结构是本研究的核心部分。InGaAs/InGaAsP MQWs激光器结构可以在1.55 μm波长下工作,具有很高的激光输出功率和高效率。 5. GaAs基板:该基板是生长InGaAs/InGaAsP MQWs激光器结构的基础。GaAs基板具有良好的电学和热学性能,可以满足激光器结构的生长需求。 6. 激光器结构的测试结果:在准连续波(QCW)条件下,激光器结构的阈值电流为476 mA,斜率效率为0.15 mW/mA。这些结果表明,生长的InGaAs/InGaAsP MQWs激光器结构具有很高的激光输出功率和高效率。 7. 低温InP层的生长:低温InP层是生长InGaAs/InGaAsP MQWs激光器结构的关键部分。低温InP层可以提高激光器结构的质量和稳定性。 8. InP缓冲层的生长:InP缓冲层是生长InGaAs/InGaAsP MQWs激光器结构的基础。InP缓冲层可以提高激光器结构的质量和稳定性。 9. 激光器结构的应用前景:InGaAs/InGaAsP MQWs激光器结构可以应用于光纤通信、激光切割、医疗等领域。该结构的开发对激光技术和相关领域的发展具有重要意义。 本文主要讲述了使用两步生长方法和热循环退火技术在GaAs基板上生长InGaAs/InGaAsP多量子阱激光器结构的研究。该研究具有重要的理论和实践意义,对激光技术和相关领域的发展具有重要影响。