优化近红外荧光成像：抑制激发光泄漏，提升检测灵敏度

"MINIMIZING EXCITATION LIGHT LEAKAGE AND MAXIMIZING MEASUREMENT SENSITIVITY FOR MOLECULAR IMAGING WITH NEAR-INFRARED FLUORESCENCE" 是一篇关于提高近红外荧光（NIRF）成像技术性能的文章。文章描述了如何通过优化滤波器组合和排列来减少激发光泄漏，从而提升成像系统的测量灵敏度。 在近红外荧光成像技术中，关键挑战之一是区分微弱的荧光信号与散射回来的激发光。当前的NIRF成像系统由于通过滤光片的激发光泄漏，其测量灵敏度受到限制。作者在这篇文章中提出，通过选择合适的滤光器组合和变化方式，可以有效地抑制这种激发光泄漏现象。 文章详细评估了不同滤光器组合和排列对激发光泄漏和测量灵敏度的影响。他们通过计算收集到的激发光与发射光的传输比率以及在控制良好的 phantom（模拟实验）研究中不同滤光器组合下的信噪比，对比分析了各种方案的效果。通过适当选择滤光器组合，文章的实验结果显示能够显著降低激发光泄漏，从而提高成像的信噪比和整体敏感性。 这一研究对于分子成像领域具有重要意义，因为它有助于改进诊断和治疗监测的精确性，特别是在肿瘤学和其他需要高灵敏度检测的应用中。通过减少激发光泄漏，可以更准确地探测到体内低浓度的荧光标记分子，这对于早期疾病检测和治疗效果评估是至关重要的。此外，这些发现可能推动NIRF成像技术的进一步发展，为未来的临床应用提供更加先进的工具。