基于选择性腐蚀铁电域反转光栅的衍射自成像研究

"该文研究了一种基于选择性蚀刻的铁电域反转格栅的衍射自成像现象，主要集中在2D铁电域反转在周期极化MgO掺杂的LiNbO3晶体中的应用。文章通过理论分析和实验展示了这种格栅在固定相位差和阵列占空比下的衍射自成像效果随衍射距离的变化，并得出了良好的理论与实验一致性结果。" 这篇论文详细探讨了利用选择性蚀刻技术在二维铁电域反转格栅（2D ferroelectric domain inversion grating）上的应用，这种格栅是基于周期极化的MgO掺杂的铌酸锂（LiNbO3）晶体构建的。铁电域反转是一种在铁电材料中改变电畴方向的技术，它能改变材料的光学性质，从而影响光的传播和衍射行为。 作者们首先制备了一个六边形阵列的格栅结构，这种结构能够对入射光进行特定方式的调制。他们对这个结构的衍射自成像效应进行了理论分析，其中考虑了固定相位差和阵列占空比这两个关键参数。衍射自成像是一个由周期性物体引起的光学现象，也被称为塔尔博特效应（Talbot effect），它使得经过周期性结构的光在特定距离处可以自我复制，形成与原物体相同的图像。 理论分析揭示了在不同衍射距离下，这种铁电域反转格栅如何影响自成像的效果。实验部分则验证了这些理论预测，展示在固定相位差下，2D铁电域反转格栅的选择性蚀刻后，衍射自成像的特性。实验结果与理论计算之间表现出很好的一致性，这表明这种基于铁电材料的光调制技术具有很高的潜力和精确性。 论文的光学信息分类代码（OCIS codes）包括050.1950（与光学成像系统相关）、070.6760（可能涉及光子晶体或周期性结构）和160.3730（可能与铁电材料或非线性光学效应相关）。论文的DOI（数字对象标识符）为10.3788/COL201513.020502，便于后续引用和查找。 这篇论文深入研究了铁电材料在光子学中的应用，特别是在衍射自成像技术中的创新，为设计新型光调制器、光学传感器和光信息处理设备提供了新的思路。