修正Levenberg-Marquardt算法在非球面误差校正中的应用
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更新于2024-06-27
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"基于修正Levenberg-Marquardt算法的非球面面形误差校正"
在光学领域,非球面镜片的应用日益广泛,其表面形状精度要求越来越高,达到0.1微米的精度已成为行业标准。在非球面镜片的制造和检测过程中,由于机械系统的误差,工件的坐标可能存在六个自由度的偏差,这直接影响到非球面表面形状的测量精度。为了提高测量的准确性,误差校正算法显得至关重要。
本文介绍了一种基于修正Levenberg-Marquardt算法的非球面面形误差校正方法。Levenberg-Marquardt算法是一种常用的参数优化算法,常用于非线性最小二乘问题,其结合了梯度下降法和牛顿法的优点,能有效解决大规模非线性优化问题。在此基础上进行修正,使其更适合于非球面面形误差的分离和校正。
首先,通过数据仿真,在理想非球面模型上加入位置误差和面形误差,生成模拟的非球面原始三维数据。然后,利用修正后的Levenberg-Marquardt算法,将这些数据与非球面的标准方程进行比较。通过最小化均方根(RMS)误差,算法可以区分并校正非球面的位置误差和面形误差,从而提高测量的精确性。
实验部分,该方法被应用到四种不同规格的玻璃非球面镜片上,并与商业非球面轮廓仪UA3P的测量结果进行了对比。结果显示,两种方法的峰值到谷值之差小于5纳米,均方根误差差异约为0.1纳米,这充分验证了修正Levenberg-Marquardt算法在实际应用中的高精度和稳定性。
这种误差校正算法不仅提高了非球面镜片的测量精度,还为光学系统的设计、生产和质量控制提供了有力工具。未来,随着光学技术的不断发展,类似的高精度校正方法将在更复杂的光学系统中发挥关键作用,确保组件的制造和组装能够达到极高的精度要求。
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