纳米压印DFB激光器阵列：低成本ONU光源关键技术

本文主要探讨了一种基于纳米压印技术的分布反馈激光器阵列在光网络单元(ONU)中的应用研究。这种创新性的光源芯片设计旨在降低光无源网络(WDM-PON)中ONU的成本，提高其性能。通过纳米压印工艺和对接生长工艺的结合，研究人员成功地制作出了集成多模干涉器的DFB激光器阵列，用于实现波分复用光网络的高效通信。 DFB激光器是一种能够高度定向发射光的半导体激光器，阵列形式的DFB激光器则可以提供稳定的光源且便于集成。纳米压印技术在此处发挥了关键作用，它允许精确控制激光器的微结构，从而优化光波长的输出和模式质量。这种技术通常用于减小设备的尺寸、减轻重量，并提高生产效率。 该光源芯片的显著特点是低成本、高性能。测试结果显示，器件的平均阈值电流低至10毫安，这意味着在较低的驱动电流下就能启动激光发射，有利于节能。同时，边模抑制比超过40分贝，表明了输出光波的质量高，信噪比优良。波长调谐范围达到了10纳米，这意味着该光源具有广泛的频率响应，能够适应不同的光纤通信系统需求。此外，出光功率高达0.2毫瓦，足以支持远距离传输。 单片集成的多模干涉器进一步提升了器件的紧凑性和集成度，简化了器件设计，减少了连接复杂性。这不仅降低了整体成本，也提高了系统的稳定性和可靠性。这种新型光源技术对于推动光通信网络的发展具有重要意义，特别是在大规模的波分复用系统中，能够有效提升数据传输速率和网络容量。 总结来说，本文的研究成果为低成本、高性能的ONU光源设计开辟了新的途径，利用纳米压印技术和DFB激光器的组合，实现了光网络单元的高效、小型化和集成化，对推动光通信技术的未来发展具有重要价值。