反射式MoS2饱和吸收体提升Nd:YVO4激光器性能

0 下载量 56 浏览量 更新于2024-08-27 收藏 1.98MB PDF 举报
本文主要探讨了在激光技术领域的一项重要进展,即利用反射式二硫化钼(MoS2)作为可饱和吸收体,实现对Nd∶YVO4(钕掺杂四氧化 yttrium 激光器)的调Q(Quadrature Modulation,调相)和调Q锁模输出。Nd∶YVO4是一种常用的激光材料,其高效率和宽谱线使其在光纤通信、光谱分析和精密测量等领域有广泛应用。 文章中,研究者采用了折叠腔结构的激光系统,这种结构能够有效地增强激光的稳定性和输出效率。在实验中,当吸收泵浦功率达到4.47瓦时,调Q脉冲输出功率达到了87.2毫瓦;而当功率提升到4.75瓦时,调Q锁模脉冲输出功率提升到了95.3毫瓦,这显示出反射式二硫化钼作为吸收体的有效性。值得注意的是,输出的超短脉冲中心波长为1064.39纳米,这一波长对于许多应用来说具有很高的实用性。 实验结果的分析和讨论不仅揭示了MoS2材料在激光调制中的性能特点,还对其潜在的优化空间和可能的应用改进提供了方向。此外,通过这些数据,研究者为后续的实验工作奠定了坚实的基础,预示着二维材料在激光技术中的前景广阔。 关键词如“激光器”、“Nd∶YVO4”、“二维材料”、“二硫化钼”和“被动调Q”表明了文章的核心主题和研究重点,强调了这项工作的技术价值和未来发展的潜力。通过这篇文章,我们可以了解到二维材料在提高激光器性能方面的独特优势,以及如何通过创新设计来实现更高效的光信号处理。 这项研究不仅展示了二维材料在激光技术中的新应用,也为优化现有激光器设计和开发新型高效光电器件提供了重要的理论支持和技术路线。随着对这类材料特性的深入理解,我们期待看到更多的创新应用和发展在未来的激光技术领域。