SMIC40纳米工艺PVS金属dummy填充规则

"该资源是针对SMIC40纳米工艺技术的PVS（Physical Verification System）规则文件，用于生成无用金属（dummy metal）填充，确保芯片布局的完整性和优化。PVS是Cadence公司的物理验证工具，常用于检查设计规则违反（DRC, Design Rule Check）和LVS（Layout vs Schematic）一致性。此规则文件版本为v1.0，由SPL团队更新。在使用过程中，用户需先在'prBoundary.dra'层绘制矩形或多边形定义填充区域，然后运行PVS-DRC，并在提交时选择 '[x] Flatten Input Hierarchy'选项以生成单一层次的镶嵌实例。DRC完成后，输出的填充GDS文件名为'fill.gds'，导入到Virtuoso中作为'layout_fills'视图。最后，将'layout_fills'视图实例化到'layout'视图中，创建覆盖层。此外，规则文件还包含了一些开关选择，如AA、GT和Mx的插入控制。" 详细说明: 1. **SMIC40工艺**：SMIC40指的是中芯国际的40纳米工艺技术，这是一种集成电路制造中的微电子工艺，能够实现高集成度和低功耗的芯片设计。 2. **PVS工具**：PVS是Cadence公司的物理验证工具，它提供了DRC和LVS等功能，确保芯片设计满足工艺库的规则要求，避免因设计问题导致的性能下降或制造失败。 3. **dummy metal**：在集成电路设计中，dummy metal通常用于填充空隙，以消除因电容和电感效应引起的信号干扰，提高芯片性能。这些金属线并不参与电路的实际工作，但有助于改善电场分布和热管理。 4. **规则文件**：本资源提供的PVS rule deck是针对SMIC40工艺定制的，用于指导如何正确设置和生成dummy metal。规则文件包含了特定的填充规则和操作步骤，如使用'prBoundary.dra'层来指定填充区域。 5. **流程**：首先，设计者需在指定层画出填充区域；接着，运行PVS-DRC，同时设定提交选项；DRC完成后，输出的'fill.gds'文件导入Virtuoso，作为填充布局视图；最后，通过Virtuoso将填充视图与原始布局视图结合，完成整个设计的覆盖。 6. **Virtuoso**：Virtuoso是Cadence的集成设计环境，用于IC设计的版图编辑和多视图管理。在这里，'layout_fills'视图与'layout'视图的结合，使设计师可以直观地查看和处理dummy metal填充。 7. **开关选择**：规则文件中的宏定义如AA、GT和Mx的插入控制，是用来调整设计参数的，例如抗锯齿（AA）、栅极阈值（GT）和多晶硅（Mx）的处理方式，以适应不同的设计需求。 这个资源提供了在SMIC40工艺下利用PVS进行dummy metal填充的详细步骤和规则，是IC设计流程中不可或缺的一部分，有助于确保设计的物理合规性和优化。