使用Calibre Pattern Matching验证复杂器件版图

"本文档是关于使用Calibre Pattern Matching进行复杂器件验证的技术方案，由Mentor Graphics的James Paris撰写。在版图验证时，由于各种工艺因素，复杂的形状（如曲线和不规则多边形）可能出现吸附问题，这给验证带来了挑战。Calibre Pattern Matching提供了一种有效的方法，能简化编码，检测版图错误，并考虑形状间的交互，避免遗漏真实制造错误，确保硅片性能。" 在半导体设计领域，尤其是模拟和射频（RF）设计，以及成熟工艺节点中，复杂的器件结构是常见的。这些器件可能包含曲线和非曼哈顿形状，增加了验证难度，因为它们在栅格格式的数据库中难以准确表示。在版图验证过程中，放大、层转换或数据分块可能导致精确的多段多边形形状发生吸附，增加了验证的复杂性。为这些复杂器件添加到现有的规则集中需要大量工作，且容易因未来改动而失效。 传统的验证方法，如黑匣子验证，虽然可以避免规则集的扩展，但可能隐藏设计数据的不完整或错误，甚至影响器件的可制造性和可靠性。为避免这些问题，设计师需要更加细致和精确的验证工具和技术。Calibre Pattern Matching正是为此而生，它允许用户在SystemVerilog Rule Description (SVRF)中轻松编写代码，对版图进行验证，并通过图形交互来标识不匹配的形状，提高检测效率。 通过图形定位标记，Calibre Pattern Matching可以识别多层的复杂器件，指出需要解决的具体违规问题。这种方法减少了额外的验证步骤，简化了流程，避免了使用不同验证集或工具带来的复杂性。它通过图形识别技术和简单的布尔运算，输出不匹配的器件结果，使得问题定位更为直接，从而提高了整个设计流程的效率和准确性。 Calibre Pattern Matching是解决复杂器件验证挑战的有效工具，它降低了编码难度，提升了验证质量，减少了潜在的制造风险，对确保设计的完整性和高性能至关重要。对于处理曲线、非曼哈顿形状等复杂版图设计的工程师来说，这是一种强大的解决方案。