Design Compiler 中的多角多模式合成技术
"多角度多模式综合设计在Design Compiler中的应用" 在设计实现流程中,传统的实现工具Design Compiler和IC Compiler对多个模式和角落的设计是通过应用一个公共的约束条件,即所谓的 umbrella mode constraining来实现的。然而,这种方法存在一些限制,例如无法同时处理多个约束集和优化多个角落。 近年来,多角度多模式综合设计(MCMM)技术的出现改变了这种情况。MCMM技术允许设计工具同时处理多个约束集和优化多个角落,从而提高了设计的灵活性和效率。 在本文中,我们将探讨MCMM技术在Design Compiler中的应用,包括其优点和缺点。我们将使用一个170k标准单元测试用例,分别在umbrella mode和MCMM style下进行综合设计,并将结果与传统的umbrella mode constraining进行比较。最后,我们将使用PrimeTime对结果进行时序分析。 MCMM技术的优点包括: * 可以同时处理多个约束集和优化多个角落,从而提高设计的灵活性和效率。 * 可以减少设计实现时间和降低设计难度。 * 可以提高设计的可靠性和鲁棒性。 然而,MCMM技术也存在一些缺点,例如: * 需要更多的计算资源和存储空间。 * 需要更复杂的设计流程和工具链。 * 可能会增加设计的复杂度和难度。 在Design Compiler中的MCMM应用可以分为两个阶段:第一个阶段是综合设计,在这个阶段中,我们将使用MCMM技术来生成多个约束集和优化多个角落。第二个阶段是布局和布线,在这个阶段中,我们将使用IC Compiler来对结果进行布局和布线。 在时序分析阶段,我们将使用PrimeTime来对结果进行时序分析,以确保设计的时序满足要求。 MCMM技术在Design Compiler中的应用可以提高设计的灵活性和效率,降低设计难度和实现时间。但是,需要注意的是,MCMM技术也存在一些缺点,需要在设计实现流程中进行权衡和取舍。
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