铝片/PVDF薄膜电容器的制备与高性能研究

"铝片/聚偏氟乙烯薄膜电容器制备及性能" 本文详细探讨了铝片/聚偏氟乙烯(PVDF)薄膜电容器的制备方法及其性能特性。铝片/聚偏氟乙烯复合材料是通过球磨工艺、溶液共混以及流延工艺制成的，其中聚偏氟乙烯作为基体材料，而具有自钝化氧化铝层的铝片则作为填充相。这一独特的制备过程使得复合薄膜的微观结构得以优化，进而影响其介电性能。 作者李茂和邓元的研究指出，这种复合薄膜的介电性能与微观结构之间存在密切关系。他们将制得的复合材料薄膜进一步加工成卷绕式薄膜电容器，并对其电容、损耗和温度稳定性进行了深入研究。实验结果显示，当铝片含量为10%时，电容器在测试频率范围内显示出出色的电容稳定性，电容值约为4.53nF，同时损耗极低，小于0.06。此外，该电容器在温度高达80℃的范围内仍能保持良好的电容性能，这体现了其优良的热稳定性。 关键词涉及到复合材料、薄膜电容器、电容以及铝，这表明研究的核心是利用复合材料技术改进电容器的性能，特别是通过铝片的引入来提高其电容特性和稳定性。文章可能还涵盖了电介质材料的选择理由、铝片表面钝化处理的重要性、以及不同工艺参数对复合材料性能的影响等内容。 这篇论文属于首发论文，可能代表了在聚合物基介电复合材料领域的一项创新研究，尤其对于提升电容器在能源存储应用中的性能具有重要意义。作者邓元，作为北京航空航天大学的教授，专注于能源材料的研究，其工作可能对未来的能源储存技术和电子设备的设计产生积极影响。