2021光刻机:半导体制造的关键设备与ASML市场霸主地位
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更新于2024-07-06
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本报告深入探讨了光刻机在半导体制造中的关键地位,将其称为"半导体制造皇冠上的明珠"。光刻机是一种精密的微纳级设备,用于将掩膜板上的图案转移到预涂有光刻胶的硅晶圆上,通过曝光、显影等步骤形成电路图的基础。早期光刻机主要采用g线(436nm)和i线(365nm),随着技术的进步,DUV(深紫外)光刻机在1990年代开始广泛应用,而13.5nm的极紫外(EUV)光刻机在近十年内引领了先进制程的发展。
2020年,全球光刻机市场规模约为135亿美元,占半导体设备市场的21%,体现了其技术复杂性和高价值特性。市场主要由ASML、Nikon和Canon三大厂商主导,ASML占据84%的市场份额,其EUV光刻机尤为稀缺,年出货量约30-50台,每台价格超过1亿美元,显示了其在高端市场的主导地位。ASML的高研发投入使其在技术上保持领先地位,2020年的营业收入达140亿美元,毛利率高达52%,显示出显著的盈利能力。
光刻机的发展经历了从接触式到接近式,再到步进式的演变,其核心零部件如光源、镜头和精密结构的不断优化是推动行业进步的关键。随着EUV的应用,光刻机的分辨率提升显著减少了后续工艺步骤,对于芯片制造效率和精度有着决定性的影响。
总结来说,光刻机作为半导体制造的核心设备,其技术进步、市场格局和龙头企业的研发投入都是行业发展的重点。了解光刻机的技术变迁和市场动态,对于理解半导体产业的未来发展至关重要。
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