华为DKBA规范：电磁屏蔽理论与设计详解（2019版）

本文主要围绕电磁兼容领域，重点探讨了连-科来网络通讯协议图2019版中的电磁屏蔽理论。首先，章节6详细介绍了连续屏蔽体和不连续屏蔽体的概念及其缺陷，包括连续屏蔽体的屏蔽模型、吸收损耗、反射损耗以及多次反射修正因子。对于连续屏蔽体，如薄膜连续屏蔽体和双层屏蔽，其理论计算相对成熟，可以用于产品设计阶段预测效能。然而，不连续屏蔽部分如缝隙屏蔽、开孔屏蔽和电缆穿透，其计算难度较大，因为它们的效能受安装状态、尺寸不确定性和多因素影响，目前缺乏通用的公式进行准确预测。 缝隙屏蔽的效能计算尤其复杂，因为缝隙尺寸依赖于具体安装情况，且存在较大的变异性。开孔屏蔽虽然有成熟的计算方法，但实际测试与理论分析间的误差仍需关注。对于电缆穿透对屏蔽效能的影响，由于涉及众多变量，理论分析往往难以给出准确的结果，因此在确定电缆接触阻抗时，通常不建议仅依赖理论分析。 尽管理论分析在某些方面如通风孔的屏蔽效能预测中有所应用，但在处理不连续屏蔽体缺陷时，当前的理论计算方法还不成熟，实践中更多依赖于经验、试验数据和工程判断。华为技术有限公司发布的电磁兼容性结构设计规范，参照了多项国内外标准，强调了在产品设计中实现电磁兼容的重要性，以及如何根据具体条件选择合适的屏蔽效能指标，如结构件的屏蔽等级和屏蔽体方案，同时考虑成本效益和缝隙设计的优化策略。 因此，本文的知识点主要包括电磁屏蔽的基本原理，连续与不连续屏蔽体的特性及计算方法，以及在实际设计中如何应对各种屏蔽难题，特别是针对缝隙和电缆穿透等问题的处理策略。这些内容对于从事电磁兼容设计和技术人员来说，具有重要的参考价值。