SpringBoot+Mybatis+Druid：动态数据源与ATHENA工艺仿真优化教程

本篇文档主要介绍了在SpringBoot、MyBatis和Druid框架下配置动态数据源的优化过程，以及如何通过TCAD工具SILVACO-ATHENA进行离子注入工艺模拟，特别是针对MOSFET的工艺仿真。以下是详细知识点： 1. SpringBoot+MyBatis+Druid动态数据源优化: - SpringBoot是一种流行的Java Web开发框架，它简化了服务配置，使得在微服务架构中管理和部署应用程序变得更加容易。 - MyBatis是一个持久层框架，用于将Java对象与数据库交互，它与SpringBoot结合可以提供自动配置和SQL映射等功能。 - Druid是一个强大的数据库连接池，通过配置可以实现动态数据源，即根据不同的业务场景或负载自动切换不同的数据库，提高系统性能和可用性。 2. SILVACO-TCAD工具介绍: - TCAD（Technology Computer-Aided Design）是一种用于模拟半导体器件行为的软件包，SILVACO是其中的领先供应商。 - Athena是SILVACO提供的工艺模拟工具，用于模拟芯片制造过程中的关键步骤，如离子注入。 3. 离子注入工艺流程: - 离子注入是半导体器件制造中的重要步骤，通过ATHENA可以设置具体参数如硼浓度、能量、倾斜角度和旋转角度等进行精确控制。 - 例如，植入硼杂质的条件被详细设定，包括剂量、曝光时间、能量、倾斜和旋转角度，以实现阈值电压校正注入。 4. ATHENA工艺仿真: - 本章内容深入到具体的模拟操作，如创建网格（影响精度和速度）、演示沉积、几何刻蚀、氧化、扩散、退火和结构操作等，以生成MOSFET的输入文件。 - 特别提到，对于离子注入或形成PN结的关键区域，需要创建更精细的网格以确保仿真效果的准确性。 5. 网格定义: - 通过网格定义菜单，用户可以设置网格的方向、位置和间距，以适应不同的模拟需求。非均匀网格的创建方法详细描述了如何在指定区域创建精确的网格结构。 该文档不仅涉及现代Java技术栈的集成，还涵盖了高级半导体器件制造的模拟技术，是理解现代集成电路设计和生产流程的重要参考资料。通过阅读，读者可以学习如何在实际项目中利用这些工具进行高效的数据源管理和工艺模拟。