集群磁流变抛光：超精密加工新方法与实验成果

集群磁流变效应超光滑抛光加工研究是一篇由中国科技论文在线首发的论文，由吴战成、阎秋生、白振伟、孔令叶和柴京富共同完成。该研究聚焦于磁流变抛光技术的创新应用，提出了利用集群分布式磁性体构建抛光工具，以实现集群磁流变效应抛光的新方法。这项工作主要围绕以下几个关键点展开： 1. **理论基础**：研究基于磁流变抛光加工原理，这是一种利用磁流变材料随磁场变化的流变特性的抛光技术。通过改变磁场，磁流变材料的粘度会发生改变，从而实现对工件表面的精细加工。 2. **新方法**：文章介绍了一种创新的抛光策略，即采用集群分布的磁性体作为抛光工具，这可能提高了抛光效率和精度，因为多个磁性体协同作用，能更均匀地施加压力并减小表面不均匀性。 3. **实验与验证**：研究人员设计并研制了集群磁流变效应平面抛光实验装置，通过实际的抛光加工试验，对K9光学玻璃和硅片进行了测试。结果显示，这种方法在高精度抛光方面表现出色，K9玻璃的最终表面粗糙度可以达到Ra0.005微米，而硅片可以达到Ra0.016微米。此外，抛光效率显著，例如10分钟内可使表面粗糙度降低一个数量级，对于K9玻璃甚至可以降低3个数量级，对于硅片降低1个数量级。 4. **成果与应用**：这项研究的成果对精密制造技术有重大意义，特别是在光学器件制造领域，因为它提供了更高效的超光滑表面处理方案。研究还得到了国家自然科学基金项目、广东省自然科学基金项目以及NSFC-广东联合基金的资助，显示出学术界的重视和认可。 5. **作者信息**：吴战成是硕士研究生，主要研究方向为精密制造技术，阎秋生则是博士生导师，二人共同领导了这项前沿研究。他们的联系信息为读者提供了进一步的交流和合作机会。 这篇论文探讨了集群磁流变效应在超光滑抛光领域的创新应用，展示了其在提高抛光精度和效率方面的潜力，为精密制造技术的发展提供了新的思路和技术支持。