用LAMMPS建立Si槽模型并沉积SiO2薄膜

以下是建立Si槽模型并沉积SiO2薄膜的LAMMPS输入文件示例：

# LAMMPS input script for Si trench model and SiO2 deposition

# Initialize simulation box
units metal
dimension 3
boundary p p p
atom_style atomic

# Define potential
pair_style tersoff
pair_coeff * * SiC.tersoff Si

# Define Si atoms
read_data Si_trench.data

# Define SiO2 atoms
region oxide block INF INF INF 20.0 INF INF
create_atoms 2 region oxide

# Define simulation parameters
timestep 0.001
thermo_style custom step temp pe etotal press
thermo_modify lost ignore norm no

# Define simulation settings
fix 1 all nvt temp 300.0 300.0 0.1
fix 2 all langevin 300.0 300.0 0.1 48279

# Define SiO2 deposition
fix 3 all deposit 1 2 100 12345 region oxide

# Define output settings
dump 1 all custom 100 dump.lammpstrj id type x y z
dump_modify 1 sort id

# Run simulation
run 10000

# End of LAMMPS input file

解释：

- 第1行：初始化模拟盒子。
- 第3行：指定三维空间边界为周期性。
- 第4行：指定原子类型为原子式。
- 第7-8行：定义Si原子的相互作用势能。
- 第11行：读取Si槽的数据文件。
- 第14-15行：定义模拟参数和输出格式。
- 第18-19行：定义温度控制和随机力控制。
- 第22行：定义SiO2沉积过程，其中“100”是每步沉积的SiO2原子数，“12345”是随机数种子，“region oxide”是沉积区域。
- 第25-26行：定义输出格式和排序方式。
- 第29行：运行模拟。
- 最后一行：结束LAMMPS输入文件。

注意：在实际模拟中，需要根据具体情况调整模拟盒子的大小、SiO2沉积速率等参数。此处仅为示例。