silvaco肖特基二极管

### 关于Silvaco软件中肖特基二极管的模拟与设计

#### 使用ATHENA模块进行结构定义
在Silvaco TCAD工具集中，ATHENA用于执行工艺流程建模。对于肖特基二极管的设计来说，可以利用该模块来创建所需的半导体层结构，包括金属接触区、阻挡层以及活性区域等部分。通过设置不同的掺杂浓度分布和其他几何尺寸参数，能够构建出满足特定需求的器件架构[^1]。

# ATHENA输入文件片段示例
begin Athena input file for Schottky Diode structure creation
STRUCTURE SILICON
    RECTANGLE XMIN=0 XMAX=5e-6 YMIN=-2e-6 YMAX=0 ZMIN=0 ZMAX=1e-6
END STRUCTURE
IMPLANT ARSENIC ENERGY=80 DENSITY=1E15 ANGLE=0 TILT=7 DEPTHTYPE=PROJECTED
REGION NAME="METAL" MATERIAL=METAL THICKNESS=0.1e-6
CONTACT METAL REGION="METAL"

#### 应用ATLAS模块分析电学性能
完成上述结构建立之后，则需借助ATLAS来进行详细的电气特性评估。此阶段会涉及到载流子传输机制的研究，比如电子和空穴的行为模式；同时也会考察诸如电流密度-电压(J-V)曲线之类的实际工作状态下的表现形式。为了提高准确性，在这里还可以引入专门针对宽禁带半导体（如SiC）优化过的物理模型，例如Hetakeyama雪崩产生模型，以便更真实地反映器件内部发生的复杂现象[^2]。

# ATLAS输入文件片段示例
.begin ATLAS simulation of electrical characteristics
MODEL MODELS=HELIKE HETEROSTRUCTURE=yes
SOLVE GUESS
OUTPUT JVS VDS MINUS:0 TO 1 BY .1 PLUS:0 TO 1 BY .1
.end