baseliner matched machine OVL wafer 可以测CDU吗
时间: 2023-12-29 14:05:57 浏览: 36
Baseliner matched machine OVL (Overlay)和CDU (Critical Dimension Uniformity)是两个不同的概念,它们各自都有自己的测量方法和设备。
Baseliner matched machine OVL是一种用于校准不同光刻层之间对准误差的技术,它通常使用光刻机和对准系统来实现。而CDU是指晶圆上同一层芯片结构的关键尺寸的均匀性,它通常使用扫描电子显微镜 (SEM) 或 CD-SEM 等设备来进行测量。
虽然Baseliner matched machine OVL和CDU是两个不同的概念,但它们在半导体制造过程中都扮演着重要的角色。具体来说,Baseliner matched machine OVL技术能够提高不同光刻层之间的对准精度和可重复性,从而减少CDU的变化,进而提高产品的制造质量和良率。
相关问题
baseliner是什么意思
Baseliner是一个英文单词,意思是“基准线”或“基准值”。在半导体制造领域中,Baseliner通常指的是一种对称性校准技术,用于调整不同光刻层之间的对准误差,以实现更高的制造精度和产品质量。
具体地说,Baseliner技术使用一种称为“基准点”的标记来确定不同光刻层之间的相对位置,然后通过对光刻层进行微小的平移和旋转来调整不同层之间的对准误差。这种技术能够显著提高制造过程的精度和可重复性,从而减少产品的制造缺陷和成本。
总之,Baseliner技术是半导体制造中的一项重要技术,能够提高产品的制造精度和质量,同时也需要高端的设备和经验丰富的技术人员来实现。