silvaco干法湿法刻蚀

Silvaco是一款半导体工艺仿真软件，可以用于模拟半导体器件的制造过程。其中包括干法刻蚀和湿法刻蚀两种方式。干法刻蚀是指使用化学气相沉积（CVD）或物理气相沉积（PVD）等方法在表面形成一层保护膜，然后使用等离子体刻蚀机将未被保护的区域刻蚀掉。湿法刻蚀则是将待刻蚀的材料浸泡在化学液体中，通过化学反应将材料刻蚀掉。在Silvaco中，可以通过设置ETCH参数来控制刻蚀的深度、角度、形状等参数。