专利规避和专利风险排查的区别

专利规避和专利风险排查是两个与知识产权管理相关的概念：

1. **专利规避**（Patent绕过或Workaround）是指企业在研发新产品或技术时，为了避免侵犯已有的专利权，通过创新设计、技术改进或是采用非专利技术手段，使得产品或服务能够合法地避开现有专利的保护范围。其目的是在满足市场需求的同时，尽量避免直接触碰他人的专利。

2. **专利风险排查**（Patent Risk Assessment）则是指企业对自身的创新活动进行全面的审查，以识别潜在的专利侵权风险。这包括对现有的专利文献、公开的技术信息等进行分析，确定新研发的产品或技术是否有可能侵犯他人专利。这种评估通常涉及到专利搜索、专利解读以及专业法律意见，帮助企业制定相应的策略来降低潜在的法律纠纷。

两者的主要区别在于，规避着重于如何巧妙地设计产品以避免专利侵权，而风险排查则关注的是预防专利侵权行为的发生，两者相辅相成，企业在实施一项新的项目时，往往会先进行风险排查后再考虑规避策略。