使用 opengl es 2.0 glsl 实现输入一张纹理图片调节阴影和高光效果,写出顶点和片元着色气代码
时间: 2023-03-15 15:01:37 浏览: 263
glmark2:glmark2是OpenGL 2.0和ES 2.0基准
顶点着色器代码:attribute vec4 a_position; // 顶点坐标
attribute vec2 a_texCoord; // 纹理坐标uniform mat4 u_mvpMatrix; // 变换矩阵
uniform sampler2D s_texture; // 纹理varying vec2 v_texCoord; // 传递给片元着色器的纹理坐标void main()
{
gl_Position = u_mvpMatrix * a_position;
v_texCoord = a_texCoord; // 将纹理坐标传递给片元着色器
}片元着色器代码:#ifdef GL_ES
precision mediump float; // 精度
#endifuniform sampler2D s_texture; // 纹理
uniform vec4 u_shadowColor; // 阴影色
uniform vec4 u_highlightColor; // 高光色varying vec2 v_texCoord; // 接收从顶点着色器过来的纹理坐标void main()
{
// 获取纹理像素的颜色
vec4 textureColor = texture2D(s_texture, v_texCoord);
// 调节阴影颜色
vec4 shadowColor = mix(textureColor, u_shadowColor, 0.5);
// 调节高光颜色
vec4 highlightColor = mix(textureColor, u_highlightColor, 0.5);
// 根据纹理像素的亮度来调节阴影和高光
vec4 outputColor = mix(shadowColor, highlightColor, textureColor.a);
gl_FragColor = outputColor;
}
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