薄膜沉积技术主要包含哪两类?薄膜光学实验室有几种关键真空镀膜设 备?举例说明生活中遇到的薄膜的应用?(至少 3 个)2019 年薄膜实验室参与 国际薄膜损伤竞赛获得世界冠军,参加比赛的薄膜是什么膜、什么技术镀制 的?
时间: 2023-12-06 14:40:48 浏览: 47
薄膜沉积技术主要包含物理气相沉积和化学气相沉积两类。
薄膜光学实验室一般有磁控溅射设备和电子束物理气相沉积设备等。
生活中遇到的薄膜的应用有很多,例如:
1. 建筑中的防紫外线膜,可以有效隔离紫外线,降低室内温度,保护家具和地板等;
2. 眼镜镀膜,可以减少眩光和反射,提高透明度和抗刮擦性能;
3. 智能手机屏幕涂层,可以提高屏幕硬度、防刮擦和防指纹等。
2019年薄膜实验室参与国际薄膜损伤竞赛获得世界冠军,参加比赛的薄膜是钛合金膜,采用磁控溅射技术镀制的。
相关问题
磁控溅射主要有哪几种?特点是什么?
磁控溅射是一种物理气相沉积(PVD)工艺,属于真空沉积工艺的一种。其特点可归纳为:可制备成靶材的各种材料均可作为薄膜材料,包括各种金属、半导体、铁磁材料,以及绝缘的氧化物、陶瓷等物质;尤其适合高熔点、高强度、高硬度、高纯度和高温耐腐蚀等特殊要求的材料;沉积温度低,薄膜质量好,均匀性好,沉积速度快,可制备大面积均匀、致密的硬质薄膜等诸多优点被广泛应用于工业镀膜中 。
磁控溅射主要有直流(DC)磁控溅射、中频(MF)磁控溅射和射频(RF)磁控溅射三种类型。其中直流磁控溅射是目前应用最广泛的一种。
铁酸铋薄膜和氧化锌纳米线做成的两端突触器件有什么优势?
铁酸铋薄膜和氧化锌纳米线做成的两端突触器件具有以下优势:
1. 高可靠性:铁酸铋薄膜和氧化锌纳米线都具有较高的稳定性和可靠性,使得两端突触器件的运行稳定性更高。
2. 低功耗:两端突触器件的工作电压较低,且具有较低的漏电流,因此能够实现低功耗的运行。
3. 高响应速度:两端突触器件具有快速的响应速度,可以实现高速的神经元模拟。
4. 可调性:铁酸铋薄膜和氧化锌纳米线的特性可以通过调整材料的组成、结构和形态等因素进行调节,因此两端突触器件具有较高的可调性。
5. 可重构性:两端突触器件可以通过改变突触连接强度实现可重构性,这种特性可以被应用于神经网络的可重构设计。
因此,铁酸铋薄膜和氧化锌纳米线做成的两端突触器件在神经网络的设计和优化中具有很大的潜力,可以被应用于模拟和实现人工智能算法。
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