高压VDMOS的Qrr增大带来的影响
时间: 2023-03-28 16:03:51 浏览: 175
高压VDMOS的Qrr增大会导致开关损失增加,从而影响器件的效率和可靠性。同时,Qrr增大也会导致开关过程中的电磁干扰增加,可能会对周围电路产生干扰。因此,需要在设计中充分考虑Qrr的影响,采取相应的措施来降低其影响。
相关问题
高压超结VDMOS中Qgd与Qrr有制约关系吗
回答:高压超结VDMOS中Qgd与Qrr有制约关系,因为Qgd和Qrr都是超结VDMOS的关键参数,Qgd是门极驱动电荷,Qrr是反向恢复电荷,它们的大小会影响器件的开关速度和反向恢复能力,因此在设计超结VDMOS时需要综合考虑它们的大小关系。
vdmos与ldmos对比
VD-MOS和LD-MOS是两种常见的金属氧化物半导体场效应管(MOSFET)结构,它们在电路应用中有一些区别。
VD-MOS(Vertical Double-diffused MOSFET)是一种垂直双扩散型MOSFET结构。它的主要特点是具有高电压操作能力和低电阻特性。VD-MOS的结构使得它能够承受高电压,适用于高压电路应用,比如电力转换和工业控制领域。此外,VD-MOS还具有低电阻特性,可以承受大电流。这使得VD-MOS在高功率应用中表现出色,如电动汽车和太阳能逆变器。
LD-MOS(Lateral Double-diffused MOSFET)是一种横向双扩散型MOSFET结构。它的特点是具有高集成度和低电容。相比于VD-MOS,LD-MOS的电阻相对较高。因此,LD-MOS主要适用于集成电路设计中,如通信设备和计算机芯片。由于LD-MOS的结构设计,它具有较低的电容,这有助于提高开关速度和降低功耗。
总体上来说,VD-MOS适用于高电压和大功率应用,而LD-MOS适用于高集成度和低功耗应用。这两种MOSFET结构在不同的电路设计中有不同的用途和特点,因此在实际应用中需要根据具体需求选取合适的MOSFET结构。
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