单片机控制设计:预测系统行为和优化设计的仿真和建模技术

发布时间: 2024-07-14 16:44:33 阅读量: 44 订阅数: 25
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Fluent电弧,激光,熔滴一体模拟 UDF包括高斯旋转体热源、双椭球热源(未使用)、VOF梯度计算、反冲压力、磁场力、表面张力,以及熔滴过渡所需的熔滴速度场、熔滴温度场和熔滴VOF

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硬件工程师
广州大学计算机硕士,硬件开发资深技术专家,拥有超过10多年的工作经验。曾就职于全球知名的大型科技公司,担任硬件工程师一职。任职期间负责产品的整体架构设计、电路设计、原型制作和测试验证工作。对硬件开发领域有着深入的理解和独到的见解。
专栏简介
《单片机控制设计》专栏是一本全面的指南,涵盖单片机控制设计的各个方面。从入门到精通,它提供了揭秘设计秘密、避免代价高昂错误的见解。专栏还提供了调试技巧、性能优化策略和构建可靠实时系统的秘诀。此外,它深入解析了传感器集成、通信协议、模拟电路、数字电路、微控制器、嵌入式软件和硬件设计。该专栏还探索了单片机控制设计的工业、消费电子、医疗、航空航天和军事应用,使其成为嵌入式系统设计人员、开发人员和部署人员的宝贵资源。

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