ISE TCAD模拟软件教程：半导体工艺仿真

"ISE TCAD SIMULATION 教程是由李義明和陈穎峙编写的，主要针对半導體製程模擬进行教学，适用于远东技术学院和劳委会举办的课程。本教程介绍了如何使用ISE公司的TCAD软件进行半导体元件和制程的模拟与分析，旨在帮助初学者掌握TCAD工具，适用于大学学生和业界专业人士。课程内容包括对各种商业和非商业的设备模拟软件的概述，以及TCAD在优化工艺和提升设备性能中的作用。" 在半导体行业中，ISE (Integrated Solutions, Inc.) 提供的TCAD（Technology Computer-Aided Design）软件是一种关键的工具，用于模拟纳米元件、制造过程和材料技术。TCAD工具如ATLAS (Silvaco)、MEDICI/TAURUS (Avant!) 和DESSIS (ISE) 等，帮助工程师预测和分析半导体器件和制程中的各种物理现象和工程特性。 本教程的目标是通过实例教学，使具有理工科背景的学生能够熟练使用ISE TCAD软件，理解纳米元件和制程的基本概念。课程强调实践操作，不仅适合在校大学生，也适合希望提升工艺改进和设备性能的业界从业者。 课程内容广泛，涵盖了商业和非商业的设备模拟软件，如MINIMOS-NT、FIELDAY、DAMOCLES、NEMO等，以及非平衡格林函数求解器等复杂模拟方法。这些工具的应用可以帮助缩短技术开发周期，减少实验晶圆的需求，优化工艺和设备设计，并评估未来技术的可能性。 此外，TCAD与ECAD（Electronic Computer-Aided Design）接口的讨论也是课程的一部分。TCAD提供了器件的物理模型，而ECAD则处理VLSI电路方程，两者结合使用，通过计算机模拟进行功能设计和性能优化。通过这样的模拟过程，工程师可以更有效地设计和优化半导体器件，从而推动技术的发展和创新。