洁净室亚微米粒子沉积研究：重力与电场效应

"洁净房间内亚微米粒子的沉积行为" 这篇论文主要探讨了洁净房间里亚微米粒子在工作台表面或晶片上的沉积行为。在半导体制造、大规模集成电路以及药剂合成车间等高洁净度环境的工业应用中，对送风气流的净化要求日益提高。亚微米级别的颗粒物可能会对高精度的生产过程造成污染和破坏，因此研究这些粒子的运动和沉积规律至关重要。 作者采用了二维滞止流模型来模拟分析不同送风速度下，气溶胶粒子在重力和电场力作用下的沉积情况。滞止流模型是一种理想化假设，它认为流体在局部达到平衡，粒子受到的力可以简化为重力和电场力。通过对模型的求解，可以预测粒子的沉积特征，并与实验数据进行对比验证模型的准确性。 文章中提到，工业洁净室通常采用上送下回的气流组织形式，工作台置于房间中央，送风气流呈二维驻点流分布。在这种情况下，送风气流的速度分布可以用特定的函数表示。通过分析送风速度、粒子大小、重力和电场强度等因素之间的相互作用，可以揭示粒子在工作台或晶片表面的沉积速度与送风参数之间的关系。 该研究对于优化洁净室的设计和操作具有实际指导意义，能够帮助减少微粒对产品的影响，提高产品质量和生产效率。此外，对于其他需要高洁净度环境的领域，如外科手术室，也可以借鉴这些理论分析，改善环境控制策略。 关键词：洁净房间，亚微米粒子，沉积行为，重力，电场力，二维滞止流模型，送风气流，半导体制造。 引用资源： 1. 万级洁净棚：http://www.jiejingfang.com/wanjijiejingpeng/ 2. 直流FFU风机过滤机组：http://www.jiejingfang.com/zhiliuffu/ 3. 层流采样车：http://www.jiejingfang.com/layerflowcar/ 这篇研究通过理论分析和模型验证，深入理解了洁净房间内亚微米粒子的运动和沉积规律，为洁净技术提供了理论支持，对于改善工艺流程和提高产品质量具有重要意义。