多入射角椭偏术测定吸收薄膜n、k、d值的QWD-84方法

"椭偏术测定吸收薄膜的n、k、d值-多入射角法 (1986年)" 这篇论文介绍了一种名为QWD-84法的多入射角椭偏术，这是一种无损检测吸收薄膜折射率(n)、消光系数(k)以及厚度(d)的方法。这种方法特别适用于吸收薄膜的参数测量，对于半导体工业和光学薄膜研究具有重要意义。 椭偏术是一种基于光的偏振状态变化来分析薄膜性质的非破坏性测量技术。在论文中，作者详细阐述了该方法的基本原理，即当单色偏振光以不同入射角CP1照射到薄膜上时，由于薄膜的各向同性和吸收特性，光在薄膜上下两个界面上会发生反射，产生复相位差。通过对不同入射角下光的椭圆偏振状态进行测量，可以解算出薄膜的n、k和d值。 论文还探讨了测量过程中的关键技术和注意事项，包括数据处理方法和测定流程图。此外，作者通过实际测量玻璃和硅衬底上的吸收薄膜，对比了测量结果，证明了QWD-84法的有效性和实用性。这种方法不仅能够一次性获取薄膜的全部参数，而且保持了样品的完整性，对于薄膜参数的精确测定和薄膜制备工艺的研究具有较高的价值。 论文中指出，传统的薄膜参数测量方法，如在薄膜上制作台阶并使用分光光度计，虽然可以准确测量厚度，但会对薄膜造成损害，并且要求衬底必须透明。相比之下，QWD-84法的无损特性使得它在薄膜研究领域具有明显优势。 这篇论文提供了多入射角椭偏术测量吸收薄膜参数的详细方案，为相关领域的科研人员提供了一种新的、可靠的测量工具，对于推动薄膜科学和技术的发展具有积极意义。