Cadence Virtuoso教程：绘制0.025微米SiO2栅氧非门版图指南

Cadence版图设计是电子电路设计的重要工具，特别是在集成电路制造过程中，它用于创建和管理设计的图形表示。在这个案例中，主要关注的是使用Virtuoso编辑器进行版图设计，特别是针对一个简单的非门（如反相器）的设计过程。 首先，章节开始于创建一个新的库(myLib)，这涉及到在Library Manager中操作，技术文件选项被设置为“compile a new techfile”或与现有技术文件关联。在Cadence CDS SPICE的使用中，新建一个技术文件(csmc1o0.tf)是必要的，以便定义设计所需的材料属性和规则。 在设计非门版图时，用户会创建一个名为“inv”的单元，包括它的Schematic View、Symbol View以及Layout View。Schematic View展示原理图，而Layout View则负责物理布局。对于非门，其晶体管部分包括PMOS（P型金属氧化物半导体）和NMOS（N型金属氧化物半导体），它们的尺寸被指定为PMOS长6微米、宽0.6微米，NMOS长3微米、宽0.6微米，模型选用的是HJ3P和HJ3N。 在Virtuoso Layout中，用户打开“inv”的Layout View，进入编辑状态。该工具提供了一个直观的界面，包括Iconmenu（图标菜单）和Menu Banner（菜单栏），图标菜单包含常用命令，如Zoom In和Zoom Out，帮助设计师快速调整视图。Status Banner显示当前的状态信息。 在绘制掩模版图时，用户需要进行一些准备工作，例如设置网格（如Y.MESH，定义为0.025微米和0.125微米的间隔，用于精确控制设计细节）。此外，还提到深度参数，如DEPTH=1.0，代表了栅氧层的厚度。整个过程强调了精确度和组织性，因为微电子版图设计要求在纳米级的精度下进行。 这一部分详细介绍了Cadence Virtuoso在版图设计中的应用，涵盖了从新建库、技术文件管理到绘制非门的具体步骤，包括元件尺寸、模型选择、网格设置以及界面操作。通过实际操作和对版图元素的精细控制，设计师能够创建出符合要求的集成电路版图。