EUV反射镜保护层研究：TiO2与RuO2的性能对比

"极紫外反射镜氧化物保护层的制备与表征" 本文主要探讨了极紫外（EUV）反射镜的重要保护技术，即在Mo/Si多层膜上制备氧化物保护层，以应对EUV光刻（EUVL）过程中常见的氧化和碳污染问题，从而提高反射镜的稳定性和寿命。研究中采用了直流反应磁控溅射技术，通过建立氧气流量与溅射电压的"迟滞回线"关系，精确控制保护层所需的氧气量，以减少活性氧对Mo/Si多层膜的损害，进而提升镜面反射率。 在实验中，研究人员对比了两种不同的保护层材料——RuO2和TiO2。通过对不同充氧量下的薄膜特性分析，他们发现TiO2在催化性和物理稳定性方面具有优势。对于TiO2薄膜，研究人员进行了详细的评价，包括对其晶相、表面粗糙度、截面均匀性和化学组分的评估。他们成功制备出了非晶态、致密且均匀的TiO2薄膜，其表面粗糙度低于100 pm，TiO2纯度高达97.2%。 实验结果显示，当TiO2保护层厚度为2纳米时，Mo/Si多层膜的反射率损失不超过5%，这满足了EUV外多层膜的基本性能要求。这些发现对于EUV光刻技术的进一步发展和实际应用具有重要意义，因为高反射率和低污染是保证EUV光刻设备高效运作的关键因素。 该研究通过优化制备工艺，成功地开发出了一种适用于EUV反射镜的高效氧化物保护层，为EUV光刻技术的进步提供了理论和技术支持。这种保护层不仅提高了反射镜的耐腐蚀性，还降低了反射率的损失，确保了EUV光刻设备的精度和长期稳定性。