45nm沉浸式光刻微反射镜阵列照明模式转换系统设计

本文主要探讨的是基于微反射镜阵列的光刻照明模式变换系统设计，该系统在45纳米节点以下的浸没式光刻中扮演着关键角色，以提升光刻的分辨率。随着技术的发展，传统的光源掩膜协同优化已经不足以满足更高精度的需求，因此研究人员提出了创新的设计思路。 该系统的核心是采用可寻址二维微反射镜阵列，通过这种方式，可以精确地控制和重构优化后的像素级光源。系统的关键在于如何减少微反射镜的数量，这涉及到光学成像与非成像原理的结合。文章提出使用柱面复眼透镜来实现这一目标，它能有效地分布光强，使其在微反射镜阵列上呈现出非均匀但特定的分布。 作者通过对微反射镜的二维偏转角度进行模拟和优化，确保了光瞳重构的高精度，光瞳重构精度小于2.5%，这在保证光源质量的同时，显著降低了光学系统的复杂性。同时，系统在X和Y方向的光瞳极平衡性也达到了很好的控制，小于0.5%，确保了光束的稳定性。 在Prolith这样的光刻软件中，进行了重构光源的曝光性能仿真，结果显示达到了预期的效果，满足了下一代浸没式光刻对高集成度系统的要求。相比于其他类似系统，该设计显著减少了镜单元数量，仅需不足4000个，从而节省了空间和成本，对于推动光刻技术的未来发展具有重要意义。 关键词包括成像系统、照明模式变换、自由照明光瞳、微反射镜阵列、光束整形以及非球面复眼，这些词汇揭示了研究的核心技术和应用领域。这项工作对于提升现代光刻技术的效率和性能有着重要的理论和实践价值。