溶胶-凝胶法ZnO:Al薄膜:退火温度对其结构与光学性能的影响

0 下载量 60 浏览量 更新于2024-08-26 收藏 1.22MB PDF 举报
"这篇研究论文探讨了退火温度对溶胶-凝胶法制备的ZnO:Al薄膜性能的影响。作者通过溶胶-凝胶旋涂法在石英玻璃衬底上生长ZnO:Al薄膜,并在450℃、550℃和650℃的不同退火环境下进行处理,分析了这些处理如何改变薄膜的结构形貌、晶格尺寸、透过率和光致发光特性。实验结果显示,ZnO:Al薄膜呈现六角纤锌矿结构,具有显著的C轴择优取向,并且在可见光区有超过90%的高透过率。随着退火温度的增加,(002)衍射峰增强,晶粒尺寸增大,PL光强度增强,紫外发光边带向短波方向移动。" 在溶胶-凝胶法制备ZnO:Al薄膜的过程中,退火是一个关键步骤,它对薄膜的最终性质有着显著影响。退火温度的提高可以促进溶胶前体的分解和聚合,使得薄膜中的纳米粒子更加均匀分布并形成更稳定的晶态结构。在这项研究中,薄膜在450℃至650℃的退火过程中,其结构变化体现在X射线衍射(XRD)谱上的(002)衍射峰增强,这表明薄膜的结晶度增加,ZnO的六角纤锌矿结构更加有序。晶粒尺寸的增大是由于高温下晶界扩散加快,促进了颗粒间的合并。 此外,薄膜的光学性能也受到退火温度的影响。高透过率是ZnO薄膜的一个重要特性,尤其是在可见光区域。实验发现,即使在较高的退火温度下,薄膜的透过率仍然保持在90%以上,这对于透明导电氧化物(TCO)应用至关重要。光致发光(PL)光强度的增强意味着薄膜的能隙能量调整和缺陷态减少,这可能是由于更高的退火温度导致了更多的缺陷被消除,从而提高了薄膜的光学性能。 值得注意的是,随着退火温度的上升,紫外发光边带向短波方向移动,这通常与晶格的应力释放和晶格参数的变化有关。这种现象可能表明薄膜的内部应力随退火温度的增加而降低,进一步优化了薄膜的光学性质。 这项研究揭示了退火温度对溶胶-凝胶法制备的ZnO:Al薄膜的微观结构和光学性能的显著影响,为优化TCO薄膜的制备工艺提供了重要参考。通过精细调控退火过程,可以有效地调整薄膜的物理性质,满足不同的应用需求,例如太阳能电池、显示技术、传感器等领域的透明导电层。