低冲击压力下钕铁硼磁体的冲击去磁研究

"低冲击压力下钕铁硼磁体冲击去磁规律的研究" 本文是一篇首发论文，主要探讨了钕铁硼磁体在低冲击压力下的冲击去磁现象。钕铁硼磁体是一种高性能的稀土永磁材料，广泛应用于各种高科技领域，如电机、传感器和磁性器件等。在遭受外界冲击时，这种磁体可能会失去部分或全部磁性，即发生去磁现象，这对设备的性能和寿命有着显著影响。 研究团队由李川、伍俊英、陈朗、李生才和鲁峰组成，他们在实验中利用气炮驱动飞片冲击的方法来模拟低冲击压力条件。他们构建了一个专门的实验装置，通过这个装置，能够研究不同速度的飞片对钕铁硼磁体产生的冲击效果。实验中，他们记录了在各种飞片速度下磁体的感生电动势和磁能量改变量的变化曲线，这些数据有助于理解冲击去磁的过程。 数值模拟计算在研究中也发挥了关键作用。研究人员通过计算模拟了飞片冲击钕铁硼磁体时的动态过程，得出了磁体表面受到的入射冲击波压力及其传播规律。这些数值结果为分析磁体的去磁机制提供了理论支持。 研究结果显示，飞片速度的增加会直接导致入射冲击波压力增大，进而使钕铁硼磁体的冲击去磁率上升。当压力接近7.45GPa时，磁体几乎完全去磁。这一发现提示我们，钕铁硼磁体完全去磁的临界压力范围可能在3-7GPa之间，这是一个重要的工程设计参数，对于防止磁体在实际应用中的意外去磁具有指导意义。 关键词涵盖了 Nd2Fe14B（钕铁硼）材料、冲击去磁、冲击波以及感生电动势，这些都是该研究的核心概念。中图分类号 O383 指示这属于物理学的磁学分支。 这篇论文通过实验和数值模拟深入研究了低冲击压力下钕铁硼磁体的冲击去磁规律，为优化磁性材料的设计和保护提供了新的见解，对于提升设备在极端条件下的稳定性和可靠性具有重要意义。