dc分析中使用的工艺角有什么?
时间: 2024-05-20 11:14:50 浏览: 9
在DC分析中,工艺角是一个非常重要的概念,它用于确定半导体器件的物理形状和结构。以下是一些常见的工艺角:
1. 接触工艺角:用于定义接触的形状和位置。这个角度通常是在金属层和半导体层之间的边缘处定义的。
2. 硅边缘工艺角:用于定义硅晶体和其它材料之间的边缘形状。通常这个角度会被指定为硅晶体表面和其它材料表面之间的夹角。
3. 退火工艺角:用于定义退火过程中加热和冷却的速率。这个角度通常被定义为加热和冷却速率之间的夹角。
4. 掩膜工艺角:用于定义掩膜的形状和位置。这个角度通常是在掩膜和硅晶体之间的边缘处定义的。
5. 晶圆工艺角:用于定义晶圆的形状和尺寸。这个角度通常是在晶圆边缘和切割线之间的夹角。
这些工艺角可以帮助工程师确定半导体器件的制造过程和物理结构,从而确保器件的可靠性和性能。
相关问题
DC/DC是什么构架工艺
DC/DC是指EN-DC、NE-DC和NGEN-DC这三种构架工艺。EN-DC是指4G无线接入网与5G NR的双连接,NE-DC是指5G NR与4G无线接入网的双连接,NGEN-DC是指在5G核心网下的4G无线接入网与5G NR的双连接。这些构架工艺是用来实现LTE与NR新无线的双连接,以提供更好的网络覆盖和容量。其中,EN-DC和NE-DC是非独立组网模式,而NGEN-DC是增强型的非独立组网模式。这些构架工艺的目的是为了满足不同运营商的需求,提供更高效、更稳定的5G网络服务。\[1\]\[2\]
#### 引用[.reference_title]
- *1* *2* [ENDC NEDC NGEN-DC是什么](https://blog.csdn.net/qq_35670215/article/details/121028524)[target="_blank" data-report-click={"spm":"1018.2226.3001.9630","extra":{"utm_source":"vip_chatgpt_common_search_pc_result","utm_medium":"distribute.pc_search_result.none-task-cask-2~all~insert_cask~default-1-null.142^v91^insert_down28v1,239^v3^insert_chatgpt"}} ] [.reference_item]
- *3* [5G EN-DC/NE-DC/NGEN-DC构架](https://blog.csdn.net/zhgeliang/article/details/86703003)[target="_blank" data-report-click={"spm":"1018.2226.3001.9630","extra":{"utm_source":"vip_chatgpt_common_search_pc_result","utm_medium":"distribute.pc_search_result.none-task-cask-2~all~insert_cask~default-1-null.142^v91^insert_down28v1,239^v3^insert_chatgpt"}} ] [.reference_item]
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DC-link表达的是什么?
在直流(DC)电力传输系统中,DC-link是指连接两个或多个半导体设备(例如电容器、电感、IGBT等)的直流电路。DC-link通常是由电容器、电感和半导体开关器件组成的,用于在直流电力传输系统中平滑输出电压和减少电流脉动。DC-link电路的作用是在电力传输系统中存储能量,并在需要时释放能量,以保持电力系统的稳定性和可靠性。在直流电力传输系统中,DC-link电路通常位于逆变器和整流器之间,以平衡直流电压和交流输出电压之间的差异,从而实现电力传输和控制。因此,DC-link是直流电力传输系统中非常重要的一个组成部分。