半导体器件工艺中RIE是什么意思

RIE是一种半导体器件加工工艺，全称为反应离子刻蚀（Reactive Ion Etching），是一种利用离子轰击的方式来刻蚀材料表面的工艺。在RIE工艺中，将待加工的半导体器件放入真空室中，通过向室内注入一定气体，并加入高能离子，这些离子在电场的作用下加速，并与气体分子发生碰撞并激发出化学反应。这些反应产生的化学物质能够刻蚀掉半导体表面的材料，从而形成所需的结构和图形。RIE工艺具有刻蚀速率快、刻蚀深度均匀等优点，因此在半导体器件加工中得到广泛应用。