生成全局概念模型时，冗余数据和冗余联系是否消除，要考虑那些方面

在生成全局概念模型时，消除冗余数据和冗余联系是非常重要的。以下是需要考虑的方面：

1. 数据来源：需要对数据来源进行筛选和清洗，以确保数据的准确性和完整性，避免不必要的冗余数据。

2. 数据处理：需要对数据进行加工和处理，去除不必要的信息和重复数据，保留重要的信息和关键词。

3. 特征提取：需要对数据进行特征提取，将数据转化为可供机器学习使用的向量或矩阵形式，以便对数据进行分析和建模。

4. 模型选择：需要选择合适的建模方法和算法，以消除冗余联系和提高模型的准确性和泛化能力。

5. 模型评估：需要对模型进行评估和优化，以保证模型的性能和可靠性，避免出现过拟合或欠拟合等问题。

相关问题

生成扫雷游戏的全局常量定义和全局数据结构定义

全局常量定义：

#define ROWS 10   // 行数
#define COLS 10   // 列数
#define MINES 10  // 地雷数量

全局数据结构定义：

struct Point {
    int row;    // 行坐标
    int col;    // 列坐标
};

struct Cell {
    bool is_mine;     // 是否是地雷
    bool is_revealed; // 是否被翻开
    bool is_flagged;  // 是否被标记为地雷
    int num_adj_mines; // 相邻的地雷数量
};

struct Board {
    Cell cells[ROWS][COLS]; // 所有格子
};

其中，`Point` 结构体表示一个点的坐标，`Cell` 结构体表示一个格子的状态，`Board` 结构体表示整个扫雷游戏的状态。`Board` 中包含一个二维数组 `cells`，用于存储所有的格子状态。每个格子状态包含三个标志位，分别表示是否是地雷、是否被翻开、是否被标记为地雷，以及一个整数表示相邻的地雷数量。

请描述局部光照和全局光照模型的区别

局部光照和全局光照是计算机图形学中两种不同的光照模型。它们的主要区别在于计算光照的范围不同。

局部光照模型是指只考虑物体表面上某个点的光照情况，而不考虑其他物体或环境对该点的影响。这种模型通常包括三种光照成分：漫反射、镜面反射和环境光。漫反射成分是指光线照射到粗糙表面时，光线被散射到各个方向的现象。镜面反射成分是指光线照射到光滑表面时，光线被反射到一个特定的方向。环境光成分是指物体表面反射出来的周围环境中的光线。

全局光照模型是指考虑物体表面上某个点被其他物体和环境反射的光线影响，计算得到该点的光照情况。这种模型通常包括两种光照成分：直接光照和间接光照。直接光照是指来自光源的直接光线照射到物体表面上的光线。间接光照是指经过多次反射、折射、散射等过程后，光线到达物体表面上的光线。全局光照模型通常需要进行复杂的计算，包括光线追踪、辐射传输等等。

总之，局部光照和全局光照模型的区别在于计算光照的范围不同。局部光照只考虑物体表面上某个点的光照情况，而全局光照考虑了物体表面被其他物体和环境反射的光线影响。