缺陷多层膜衍射谱简化模型提升极紫外光刻精度

本文主要探讨了极紫外光刻中含缺陷的多层膜衍射谱仿真问题，提出了一种简化模型来精确模拟这种复杂现象。传统的多层膜模型常常难以准确处理缺陷对光的反射和衍射效应，特别是当缺陷位于多层膜结构的不同位置时。作者创新性地采用了相位突变和反射系数振幅衰减的概念，通过这两个参数来量化缺陷对光谱的影响。 在简化模型中，相位突变量具体来源于多层膜表面以下的第6层膜的缺陷特性，这反映了缺陷如何改变光的传播路径和相位分布。另一方面，反射系数振幅衰减则由基底的缺陷形态决定，它影响了光在缺陷区域的强度变化。这一设计使得模型能够更精细地捕捉到缺陷对光束传播的局部影响。 与传统的单平面近似（SSA）模型相比，该简化模型在保持仿真速度基本不变的同时，显著提高了含缺陷多层膜衍射谱的仿真精度。在实验条件下，例如当入射角为6°时，模型能够将0到+3级衍射光的振幅仿真误差降低超过50%，特别是在入射角小于12°的情况下，振幅误差表现出良好的稳定性。这一结果表明，简化模型能够提供更为准确的光谱预测，对于优化光刻工艺过程中的缺陷控制具有重要意义。 通过得到的含缺陷多层膜衍射谱的解析表达式，研究者们可以深入理解缺陷如何影响光的衍射行为，为进一步开发掩模缺陷补偿公式提供了理论基础。这对于提升极紫外光刻技术的精度和效率，以及确保光刻图案的高质量复制至关重要。 这项工作为理解和控制极紫外光刻过程中复杂的衍射现象提供了一种实用而高效的工具，有助于推动相关领域的科研进展和技术应用。通过结合理论分析与数值模拟，研究人员可以更好地应对多层膜结构中的缺陷挑战，从而推动极紫外光刻技术向更高精度和效率的方向发展。