Skyline三维模型烘焙教程：打造逼真光照效果

Skyline三维模型烘焙技术文档详细介绍了如何通过Skyline软件进行模型烘焙，以增强其渲染效果并优化纹理资源使用。以下是关键知识点的详述： 1. 模型创建与准备: - Skyline限制了对材质通道1的处理，因此在创建模型时，应确保将纹理通道和贴图坐标通道设置为2，以便烘焙过程专注于通道1，用于最终的纹理输出。 - 模型应保持自然且符合现实的光照和阴影效果，避免过度曝光或死黑现象，投影方向也需要正确设置。 2. 渲染设置: - 烘焙可以使用Max默认的扫描线渲染器，如V-Ray等第三方渲染器，以平衡速度和质量。 - 使用"RenderToTexture"功能，设置输出路径，选择烘焙对象，根据模型展UV的方式（自动展开或现有通道），选择合适的贴图类型（例如CompleteMap）。 - VRay渲染时，需要指定VRay完成贴图，并设置输出纹理的命名、格式和大小。对于大型场景，建议分块烘焙以减少内存消耗。 3. 烘焙过程: - 烘焙会自动生成壳材质，需要手动清理以保留烘焙后的材质。烘焙完成后，可以对比原始模型和烘焙后的纹理差异，原始模型可能使用平铺纹理节省资源但缺乏光影效果，而烘焙后的纹理能更好地体现光照和阴影。 4. 注意事项: - 制作高模时，为了适应烘焙的特性，应将模型分解成多个部分分别制作，每个部分独立烘焙可以生成更多的图片，提升细节展现。推荐使用1024x1024大小的jpg格式图片，至少四个部分，这样可以更好地模拟现实光照效果。 总结来说，Skyline的三维模型烘焙技术是一种优化渲染质量和减少纹理资源消耗的有效手段，通过细致的模型设置和烘焙操作，能够提升场景的真实感，尤其是在处理高模和大规模场景时，合理的烘焙策略显得尤为重要。