Silvaco TCAD 软件用来模拟半导体器件电学性能,进行半导体工艺流程仿真,还可以与其它
EDA 工具组合起来使用(比如 spice),进行系统级电学模拟(Sentaurus 和 ISE 也具备这些功能)。
SivacoTCAD 为图形用户界面,直接从界面选择输入程序语句,非常易于操作,其例子教程
直接调用装载并运行,是例子库最丰富的 TCAD 软件之一,你做的任何设计基本都能找到
相似的例子程序供调用。Silvaco TCAD 平台包括工艺仿真(ATHENA),器件仿真(ATLAS)和快速
器件仿真系统(Mercury),尤其适合喜欢在全图形界面操作软件的用户。 G' Q, h1 b7 ]% S. S.
L
; v% Y# V5 [# V: ?$ B% o8 x; I
4 _& _- u+ \/ |+ G# m. s8 D
, @& E: y1 [. M, ^# M
" f4 A X, W* H }--------------------------------------------------------------------------------0 H9 v# X$ A. f0 K8
H0 ~) g0 M7 ?7 j
0 R' P+ I1 ^7 J' S! I& l8 O◆ ATHENA 工艺仿真系统; ATLAS 器件仿真系统 6 \' f5 F) t! p" E! Z7 X
k4 ^
9 e1 S) |6 s6 `. H( c; J3 ]$ F
--------------------------------------------------------------------------------
% W' C% Z# d, H6 Q* w. @
7 ~% y R5 a) Z! @, E1 cATHENA 工艺仿真系统 2 B, {( W9 L% N5 y
$ m5 p% `) i. H8 B/ F
ATHENA 工艺仿真系统使得工艺和集成工程师能够开发和优化半导体制造工艺流程。
ATHENA 提供一个易于使用、模块化的、可扩展的平台,可用于半导体材料的模拟离子注入、
扩散、蚀刻、淀积、光刻、氧化及硅化。ATHENA 通过仿真取代了耗费成本的硅片实验,从
而缩短了开发周期并且提高了成品率。" a, r1 n8 z* u/ {' y
ATHENA 工艺仿真系统:8 Z5 c2 F! C0 O* Z% R7 x$ p
◆可迅速和精确地模拟应用在 CMOS、双极、SiGe/SiGeC 、SiC、SOI 、III-V、光电子和功率
器件技术的所有关键加工步骤;
( y3 L8 }6 d. u" u* x* r$ Y◆精确地预测器件结构中的几何参数、掺杂分布和应力;2 S# M& ^6
}5 c" ^/ I/ i4 i5 k
◆简单易用的软件集成绘图性能,自动网格生成,工艺步骤的图形化输入, 以及以前的
TMA 工艺 deck 文件的简便导入;
) ?& O9 ~: d: L◆博士级物理学家组成的 TCAD 中心支持团队,为先进的半导体技术不断开发
模型;
! a4 M$ ?+ a# ^! c+ n B; D0 e◆帮助 IDMs、芯片生产厂商以及设计公司优化半导体工艺,使
其达到速度、产量、击穿、泄漏电流和可靠性的最佳结合;
) a1 m ?, H% n/ }( a◆加速新工艺开发的投产和设备升级。
! u6 Q0 A" I2 r2 ~- W* e: u* L S. o x* b
ATHENA 工艺仿真系统组件:
% m3 G7 f. b( p6 A
4 U- b/ j5 V, m6 h, l3 B0 ^ J0 Q3 ~" [( U* p9 p/ L
ATHENA 工艺仿真系统结构:7 `: E4 N. X6 h, o( J1 p+ M4 k
" d% D9 j2 K: O0 y& ^3 w+ d