ALD在HER、OER中的应用进展

ALD（Atomic Layer Deposition，原子层沉积）是一种先进的薄膜制备技术，可以在纳米尺度上控制材料的组成和结构。在HER（水电解制氢）和OER（氧电解制氧）中，ALD技术可以用来制备高效的催化剂。以下是ALD在HER和OER中的应用进展：

1. HER方面，ALD技术可以用来制备纳米级别的催化剂，如Pt、Ni、Co等。ALD制备的Pt催化剂表面能量更低，相对于传统方法制备的Pt催化剂，增强了Pt与H2O的相互作用，提高了HER的效率。

2. OER方面，ALD技术可以用来制备氧化物催化剂，如Co3O4、NiO等，这些催化剂具有良好的电化学活性、热稳定性和机械强度。ALD制备的氧化物催化剂具有均匀的厚度和组成，这可以提高催化剂的稳定性和催化性能。

3. 最近的研究还表明，ALD技术可以用来修饰催化剂表面，例如通过ALD修饰Pt催化剂表面，可以形成Pt-Sn合金，这可以提高催化剂的稳定性和催化性能。

综上所述，ALD技术在HER和OER中的应用前景广阔，可以制备高效、稳定的纳米级催化剂，提高水电解和氧电解的效率和经济性。