告诉我更多ALD在HER、OER中的应用进展

ALD（Atomic Layer Deposition）是一种薄膜制备技术，可以通过逐层沉积单原子或分子层来控制材料的性质和厚度。在HER（水电解还原）和OER（水电解氧化）中，ALD技术可以用于制备高效的电催化剂。

近年来，ALD技术在HER和OER中的应用取得了一定的进展。例如，在HER中，通过将Pt与Ni或Co等过渡金属杂化，可以制备出具有高效催化性能的Pt-Ni或Pt-Co合金催化剂。同时，ALD技术还可以用于修饰碳基催化剂表面，提高其催化活性。

在OER中，ALD技术可以用于制备具有高活性的氧化物催化剂，如NiCo2O4、Fe2O3等。此外，通过将ALD制备的氧化物催化剂与碳基催化剂杂化，可以制备出具有优异OER活性的复合催化剂。

总之，ALD技术在HER和OER中的应用进展不断，未来有望进一步提高电催化剂的性能和稳定性。