mask_hole = mask_hole | mask3(100,200,x_length/N,N,N,aperture); mask_hole = mask_hole | mask3(150,200,x_length/N,N,N,aperture); mask_hole = mask_hole | mask3(200,200,x_length/N,N,N,aperture); Gaussian_I = f_Gaussian_beams(w0,Gs_z,lamda,x_length,x_length,N,N); E0 = Gaussian_I.*mask_hole; E1 = fftshift(fft2(E0)); 解释下这段代码

这段代码的作用是生成一个高斯光束的复数电场矩阵，并对其进行傅里叶变换。下面逐行解释代码的具体操作：

1. `mask_hole = mask_hole | mask3(100,200,x_length/N,N,N,aperture);`
这行代码的作用是在指定位置生成一个掩膜矩阵，用来表示光束的孔径。`mask3`函数根据传入的参数生成一个矩形孔径掩膜，并将其与`mask_hole`进行按位或操作，将该孔径添加到掩膜矩阵中。

2. `mask_hole = mask_hole | mask3(150,200,x_length/N,N,N,aperture);`
同样的操作，这行代码在不同位置生成另一个矩形孔径掩膜，并将其添加到掩膜矩阵中。

3. `mask_hole = mask_hole | mask3(200,200,x_length/N,N,N,aperture);`
同样的操作，这行代码在另一个位置生成另一个矩形孔径掩膜，并将其添加到掩膜矩阵中。

4. `Gaussian_I = f_Gaussian_beams(w0,Gs_z,lamda,x_length,x_length,N,N);`
这行代码调用了一个名为`f_Gaussian_beams`的函数，传入一些参数来生成一个高斯光束的复数电场矩阵。

5. `E0 = Gaussian_I.*mask_hole;`
这行代码将生成的高斯光束矩阵与掩膜矩阵按元素相乘，得到一个经过孔径控制的光束。

6. `E1 = fftshift(fft2(E0));`
这行代码对经过孔径控制的光束进行二维傅里叶变换，并通过`fftshift`函数对结果进行中心化处理，得到最终的复数电场矩阵`E1`。