高速热铁盘抛光CVD金刚石技术研究

"热铁盘法高速抛光CVD金刚石 (2008年)，该研究探讨了利用高速热铁盘抛光设备对化学气相沉积(CVD)金刚石进行精细抛光的工艺参数，包括温度、转速、压力和时间对抛光效果的影响。通过实验发现，较高的抛光速度有助于提升表面质量和抛光效率。在特定条件下，即抛光温度850℃，转速164mm/s，压力24.892N，持续抛光120分钟后，金刚石表面粗糙度显著降低，从Ra=9.67μm降至Ra=0.016μm。原子力显微镜的分析结果显示，抛光后的表面存在一些高度在60-70nm的突峰，这些峰的高度是普通峰的2-3倍，且具有一定的方向性。这表明抛光过程中的直压式运动方式对表面微观形态产生了特定影响。" 这篇论文详细研究了高速热铁盘法在抛光CVD金刚石中的应用，CVD金刚石是一种通过化学气相沉积技术制造的人造金刚石，具有优异的物理和化学特性。在精密加工领域，金刚石的表面质量对其性能至关重要。研究者通过一系列实验，探讨了四个关键因素——温度、转速、压力和时间，对抛光效果的贡献。 实验结果显示，抛光速度是影响抛光质量和效率的关键因素。在高温（850℃）和高速（164mm/s）下，金刚石表面的粗糙度显著改善，达到了非常低的0.016μm，这极大地提升了金刚石的光学和机械性能。同时，适当的压力（24.892N）确保了抛光过程的稳定性和精度。 原子力显微镜的微观观察揭示了抛光表面的特殊结构，存在一些较高且具有方向性的突峰，这可能是由于抛光过程中采用的直压式运动方式导致的。这种微观结构可能影响金刚石的摩擦特性和与其他材料的相互作用，对于优化抛光工艺和理解抛光机制具有重要意义。 这篇论文为CVD金刚石的精细抛光提供了重要的实验数据和理论依据，对于提高金刚石的表面质量和进一步开发其在精密工程领域的应用具有实际指导价值。此外，研究结果也为其他硬质材料的高速抛光工艺提供了参考。