机器视觉高精度对准系统：Image-Servo Mask Alignment 设计

"Mask Alignment System.pdf 是一份关于利用机器视觉技术实现高精度对准系统的文章。文章探讨了一种采用双CCD（电荷耦合器件）相机和XXY平台的图像伺服掩模对准系统的设计。该系统在光刻技术、微电子机械系统、半导体工艺、印刷电路板和显示器制造等领域有着广泛的应用。随着产品尺寸的微小化，自动掩模对准的重要性日益凸显。传统的XY-Θz堆叠平台由于重量大且存在累积平面度误差，已经不能满足高精度的需求。" 本文详细介绍了如何通过先进的机器视觉方法来达到亚微米级别的对准精度。首先，系统采用了UVW对位平台，这种平台能够提供三个独立的运动轴，分别对应于U、V、W方向，确保在三维空间内的精确移动，从而实现高精度对准。UVW对位平台的使用显著提高了对准的准确性，减少了传统对准方法中的定位误差。 其次，文章提到采用双CCD相机作为核心的机器视觉组件。这两个相机同时捕捉图像，通过比较和分析两者的差异，可以实时校正和调整掩模和基板之间的相对位置。这种图像伺服技术使得系统能够快速响应并修正微小的偏差，进一步提升了对准的效率和精度。 此外，文章还讨论了系统的机械设计，包括XXY平台的结构优化，以减少重量和提高刚性，从而降低由于机械变形导致的对准误差。同时，系统可能还包含了先进的控制算法，如PID（比例-积分-微分）控制，以实现更平滑、更精确的运动控制。 "Mask Alignment System.pdf" 文件深入探讨了基于机器视觉的高精度对准技术，涉及光刻机对准系统、高精度对位机、UVW对位平台和掩模版对准等多个关键领域。这一技术对于现代微电子制造中不可或缺的精密对准操作具有重大意义，有助于推动微纳米制造工艺的发展。