ICC后端设计流程:数据准备与技术文件整合
ICC Reference Flow文档主要关注的是后端设计流程,特别是在集成电路设计中的整合和优化。该流程涉及数据准备、技术文件管理、物理验证规则设置以及逻辑库创建等关键步骤。 1. 数据准备:这是后端设计的首要任务,包括从前端获取必要的设计数据。前端通常提供hdl格式的门级网表(用于描述电路的逻辑结构),sdc格式的时序约束文件(定义设计的时序关系)。如果数据已经包含了设计和约束,那么无需单独提供这些文件。此外,还需要def文件(如scandef)用于DFT(设计故障检测)识别,以及saif文件来估计功耗,记录信号的动态翻转情况。 2. 技术文件管理:技术文件如file.tf用于ICC,它源自标准单元库。对于某些IP,如果没有mw库,可能需要使用lef、gds和db逻辑库来构建。特别要注意的是,在导入宏单元(macro)的lef文件时,需要确保包含antenna相关的antennalef,以便宏库中包含完整的antenna信息。逻辑库使用db格式,针对标准单元、IO和宏单元,需要准备三种典型环境(最大值、最小值和典型条件)的TluPlus文件,这些文件是进行时序分析和提取寄生参数的依据,可以通过命令`grdgenxo -itf2TLUPlus`转换自itf文件。 3. 验证规则设置:物理验证包括DRC(设计规则检查)、LVS(layout vs schematic)和ESD(静电放电)规则,还有针对dummy填充的特殊规则。这些规则确保设计符合预期的电气性能和规范。 4. Library Setup:这部分涉及到设置逻辑库和创建MW库。首先,使用命令`settarget_library`和`link_library`来指定逻辑库,并设置逻辑网络,如`setmw_logical0_net`和`mw_logical1_net`。然后,使用`create_mw_lib$my`命令来创建定制的MW库,这一步对于集成ICC流程至关重要。 图1展示了整个MW创建流程,以Milkway技术为例,展示了从数据准备到库创建的完整流程。 ICC Reference Flow文档详细阐述了后端设计过程中涉及的技术细节,确保了集成电路设计的高质量和一致性,从数据获取、处理到验证,每个环节都对最终产品的性能和可靠性有直接影响。
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