ICC后端设计流程：数据准备与技术文件整合

ICC Reference Flow文档主要关注的是后端设计流程，特别是在集成电路设计中的整合和优化。该流程涉及数据准备、技术文件管理、物理验证规则设置以及逻辑库创建等关键步骤。 1. 数据准备：这是后端设计的首要任务，包括从前端获取必要的设计数据。前端通常提供hdl格式的门级网表（用于描述电路的逻辑结构），sdc格式的时序约束文件（定义设计的时序关系）。如果数据已经包含了设计和约束，那么无需单独提供这些文件。此外，还需要def文件（如scandef）用于DFT（设计故障检测）识别，以及saif文件来估计功耗，记录信号的动态翻转情况。 2. 技术文件管理：技术文件如file.tf用于ICC，它源自标准单元库。对于某些IP，如果没有mw库，可能需要使用lef、gds和db逻辑库来构建。特别要注意的是，在导入宏单元（macro）的lef文件时，需要确保包含antenna相关的antennalef，以便宏库中包含完整的antenna信息。逻辑库使用db格式，针对标准单元、IO和宏单元，需要准备三种典型环境（最大值、最小值和典型条件）的TluPlus文件，这些文件是进行时序分析和提取寄生参数的依据，可以通过命令`grdgenxo -itf2TLUPlus`转换自itf文件。 3. 验证规则设置：物理验证包括DRC（设计规则检查）、LVS（layout vs schematic）和ESD（静电放电）规则，还有针对dummy填充的特殊规则。这些规则确保设计符合预期的电气性能和规范。 4. Library Setup：这部分涉及到设置逻辑库和创建MW库。首先，使用命令`settarget_library`和`link_library`来指定逻辑库，并设置逻辑网络，如`setmw_logical0_net`和`mw_logical1_net`。然后，使用`create_mw_lib$my`命令来创建定制的MW库，这一步对于集成ICC流程至关重要。 图1展示了整个MW创建流程，以Milkway技术为例，展示了从数据准备到库创建的完整流程。 ICC Reference Flow文档详细阐述了后端设计过程中涉及的技术细节，确保了集成电路设计的高质量和一致性，从数据获取、处理到验证，每个环节都对最终产品的性能和可靠性有直接影响。