Sentaurus中文教程:从SPROCESS到SDEVICE的完整仿真流程详解

3星 · 超过75%的资源 需积分: 5 104 下载量 102 浏览量 更新于2023-03-16 15 收藏 1.38MB PDF 举报
Sentaurus中文教程是一个针对初学者的实用教程,它涵盖了Sentaurus软件中的关键模块,如SPROCESS、SDEVICE和SDE,帮助用户理解并掌握整个仿真流程。以下是详细的教程内容概要: 1. **SPROCESS** - Sentaurus Process (SPROCESS) 是用于模拟工艺步骤的工具,如光刻、离子注入和退火等。在这个阶段,用户通过创建新的工程(Project > New > NewProject),添加sprocess仿真工具,并指定“UseLigamenttoCreateInputFiles”。在LigamentFlowEditor界面中,用户可以编辑工艺流程的头文件,定义变量和宏,以及设置工艺参数,如仿真区域(以(x0y0x1y1)坐标表示,但实际深度由depth参数决定)和用户自定义网格。 - 新建宏和参数调整是关键环节,例如修改title为自定义名称,region设置为005.12,涉及网格定义时,用户需要输入线的位置(如linexlocation、lineylocation)、间距(spacing)和标签(tag),如在top、bottom和left边界的设置。 2. **SDE** - Sentaurus Device Editor (SDE) 负责处理SPROCESS的输出文件,它提供了图形化的界面,用户可以在此添加电极、划分网格,并对器件结构进行精细化设计。通过SDE,用户能够手动设计器件结构,包括材料、边界和掺杂等特性。这一步是将物理设计转化为数值模拟的基础。 3. **SDEVICE** - Sentaurus Device (SDEVICE) 则是用于模拟物理参数的模块,它读取SDE处理后的文件,并利用物理模型和数学算法进行器件性能的预测。这个阶段可能涉及到诸如电流密度、电场分布、电阻率等参数的计算。 以一个完整流程为例,用户会先完成工艺仿真,然后使用SDE对结构进行编辑,最后利用SDEVICE进行器件性能的模拟分析。整个过程需要细致的操作和理解各个工具的功能及参数设置,以确保仿真结果的准确性。 Sentaurus中文教程旨在提供一个循序渐进的学习路径,帮助读者逐步掌握Sentaurus工具的使用,从工艺流程设计到器件物理参数的模拟,都是构建和优化半导体器件的重要步骤。无论是新入行者还是已有一定经验的工程师,这个教程都能提供宝贵的知识和实践经验。