如何在Sentaurus Workbench中利用Ligament进行参数化的工艺流程模拟？请提供具体步骤和关键操作。

在半导体器件和工艺设计领域，Sentaurus Workbench结合Ligament工具提供了一个强大的平台来实现参数化的工艺流程模拟。参数化模拟不仅能够帮助工程师优化设计，还能够预测和分析不同工艺条件下的器件性能。以下是利用Ligament进行参数化模拟的具体步骤和关键操作：

参考资源链接：[Sentaurus TCAD工具使用入门教程](https://wenku.csdn.net/doc/2c32dr1fk5?spm=1055.2569.3001.10343)

1. 启动Sentaurus Workbench，并创建一个新工程。
2. 在Sentaurus Workbench中导入或创建所需的Ligament工艺流程文件(.lig文件)。
3. 在Ligament流程编辑器中打开该文件，找到需要参数化的部分。通常这些部分会涉及到工艺变量，如温度、时间、剂量等。
4. 对于每个需要参数化的变量，使用Ligament的语法设置参数范围或列表。例如，可以使用命令 '@parameter: 温度 range(100, 200, 5)' 来定义一个温度参数，它的值从100度变化到200度，步长为5度。
5. 编写或修改宏文件，以确保它们能够正确地调用这些参数。
6. 保存对.lig文件的更改并返回到Sentaurus Workbench。
7. 在Sentaurus Workbench中配置模拟运行环境，确保参数化设置正确。
8. 执行模拟流程。Sentaurus Workbench将会根据在Ligament中设置的参数范围自动运行多次模拟。
9. 运行结束后，使用Sentaurus Workbench的分析工具查看和比较不同参数设置下的模拟结果。
10. 利用Tecplot SV进行结果的可视化处理，以便更好地理解和分析模拟数据。

通过以上步骤，你可以在Sentaurus Workbench中利用Ligament进行参数化的工艺流程模拟，从而对半导体制造过程进行全面的模拟和优化。为了更深入地学习Sentaurus工具的使用，建议详细阅读《Sentaurus TCAD工具使用入门教程》，该教程将帮助你掌握Sentaurus的各个方面，包括参数化模拟在内的各种高级技巧。

参考资源链接：[Sentaurus TCAD工具使用入门教程](https://wenku.csdn.net/doc/2c32dr1fk5?spm=1055.2569.3001.10343)